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国内厂商氧化镓技术布局再传新进展
近期,进化半导体(深圳)有限公司的氧化镓技术布局取得阶段性进展,该公司制备的氧化镓厚膜同质外延片厚度为40μm,使用自产氧化镓衬底,取自进化半导体独特的“无铱工艺”氧化镓晶体,晶片尺寸为2英寸,晶面为(100)偏6度,使用自主开发的科研级HVPE外延设备,支持2~4英寸衬底。
2025-10-10
2024-08-23
生日会|温馨相伴 共庆生辰
8月21日,雷博微电子举办了员工生日会&新员工茶话会,“寿星们”齐聚一堂,共同度过了一个美好的下午。
2024-08-09
雷博日丨表彰先进 砥砺前行
8月8日是雷博微电子开启半导体设备领域深耕发展的纪念日,在工业半导体设备行业的发展历程中,雷博微电子一路追风乘势,在前进的道路上奋力奔跑,留下了一串串奠基、开拓、奋进、奉献的坚实足迹。
2024-07-31
产品推介丨SS200-2HP全自动烘烤机
Mask专用工艺设备
2024-07-22
黄光段一站式服务产品推介
黄光制程是半导体生产中至关重要的一个环节,它直接影响到芯片的性能和良率,它涉及光刻胶的涂布、曝光、显影以及刻蚀等关键步骤,这些步骤在半导体制程中扮演着核心角色,对工艺的精密度要求极高。
雷博微电子的自研设备已打通黄光段全流程,我们有能力为客户提供“为最终效果负责”的一站式服务。
2024-07-19
雷博微电子亮相第十六届集成电路封测论坛
7月12日,第十六届集成电路封测产业链创新发展论坛(CIPA 2024)在苏州金鸡湖国际会议中心开幕,本届会议以「共筑先进封装新生态,引领路径创新大发展」为主题,通过主旨论坛、专题论坛、圆桌对话和展览展示等多种活动,分享集成电路先进封装技术的最新成果和应用案例。雷博微电子在本届会议中,携最新的研发成果亮相展位,并在半导体设备与材料专题对接会中发表了精彩演讲。
2024-07-19
新产品推介丨Clean Track BS8-2C2D前道匀胶显影机
光刻工艺是半导体制造过程中的一个关键步骤,用于在晶圆(wafer)上生成微小的图案,这些图案是半导体电路的一部分。Clean track系统在光刻过程中扮演了重要的角色,专门用于涂覆、烘烤和显影,确保这些步骤在无尘环境中进行,以避免任何污染。
2024-07-19
圆满收官丨SEMI-e第六届深圳国际半导体技术暨应用展览会精彩回顾
6月26日—28日,SEMI-e第六届深圳国际半导体展在深圳国际会展中心4/6/8号馆成功举办!
2024-06-21
【生日会】筑梦未来,携手共进
6月20日,雷博微电子举办了员工生日会&新员工茶话会,为员工提供了一个欢聚一堂的机会,与员工共同庆祝生命中的重要时刻并欢迎新成员的加入。
2024-06-06
邀请函丨雷博微电子邀您相约SEMI-e第六届深圳国际半导体技术暨应用展览会
SEMI-e 2024第六届深圳国际半导体技术暨应用展览会以【“芯"中有"算”·智享未来】为主题,本届展会将邀请以芯片设计、晶圆制造、封装测试、材料和设备及核心部件为领域的展商参展,是国产半导体领域具有影响力和代表性的行业展会。同时聚焦半导体细分领域:IC载板暨陶瓷封装、第三代半导体、IGBT、AL算力、算法、存储、电源及储能、毫米波雷达及自动驾驶、Mini/Micro-LED 等各种最新应用解决方案。
本届展会将为产业链的升阶发展搭建供需精准对接、双向奔赴的平台,探索半导体行业发展新路径,共掘
2024-06-06
产品速递丨堆叠式全自动去胶剥离机
单元堆叠配置,整机尺寸大幅缩小,节约厂房占地面积
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